Ti Etchant

HTE-100

Product : HTE-100

WLCSP용 Sputtered Ti Layer Etch Chemical (Thk. : 50~150nm)

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두께범위
(Thk. : 50~150nm)

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친환경(F-free)
공정 적용

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Metal Damage Free
(SnAg, Ni, Au, Al, Cu)

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타사 대비
미세 정밀 패턴 구현 가능

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우수한
Process capacity

제품명 평가 항목 WLCSP RDL
타사 제품 E/R (nm/sec) 2.0
Undercut (nm) 298.8 (O/E : 300%)
HCE-300 E/R (nm/sec) 2.2
Undercut (nm) 265.6 (O/E : 300%)
Capacity 1 Sheet
(300% over etch)
100 Sheet
(300% over etch)
200 Sheet
(300% over etch)
300 Sheet
(300% over etch)
타사 제품
Undercut
HCE-300 이미지 HCE-300 이미지 HCE-300 이미지 HCE-300 이미지
298.8nm 290.5nm 282.2nm 261.5nm
HTE-100
Undercut
HCE-300 이미지 HCE-300 이미지 HCE-300 이미지 HCE-300 이미지
265.6nm 257.3nm 253.2nm 249.0nm
Ti
Residue
HCE-300 이미지 HCE-300 이미지 HCE-300 이미지 HCE-300 이미지
No Residue

Processing capacity 별 E/R 및 Undercut 비교?

그래프 설명 바 그래프 이미지